- 一臺(tái)EUV光刻機(jī),年耗電1000萬(wàn)度,臺(tái)積電也要心痛電費(fèi)
- ASML的哀愁:EUV光刻機(jī)將不再是制造高端芯片的唯一選擇
- 多條重磅消息傳出,ASML的EUV光刻機(jī)時(shí)代正在落幕
- 發(fā)力NIL技術(shù),佳能想給中國(guó)提供光刻機(jī),還是媲美EUV的那種
- 中國(guó)研發(fā)石墨烯芯片,替代硅基芯片,就不需要EUV光刻機(jī)了?
- 華為公布一項(xiàng)EUV光刻新專利
- 怕被市場(chǎng)拋棄,ASML急著擴(kuò)大產(chǎn)能,EUV光刻機(jī)提升210%
- 要造芯片就離不開(kāi)ASML?EUV技術(shù)壁壘雖高,但已經(jīng)有人做到了繞路而行
- 光刻技術(shù)不再是一家獨(dú)大!這些光刻技術(shù)未來(lái)都有可能替代EUV
- 不再需要EUV光刻機(jī) 國(guó)內(nèi)首條光子芯片產(chǎn)線明年落地