- 10臺EUV光刻機(jī),456億,外媒:臺積電頂不住了
- 光刻機(jī)受制于人:有技術(shù)也生產(chǎn)不出芯片,華為EUV掃描儀專利有用?
- 10臺EUV光刻機(jī),456億,外媒:世間再無臺積電
- 美媒:EUV光刻機(jī)時代開始“落幕”了
- 韓企研發(fā)出石墨烯EUV光罩保護(hù)膜,能大幅度提高5nm芯片良率
- ASML壓力山大,全球都想繞過EUV光刻機(jī),來制造芯片
- 突破EUV的替代方案:納米壓印
- 很遺憾,三種EUV光刻機(jī)替代方案,中國都表現(xiàn)不突出
- 給中國樹立榜樣:被日本制裁后,韓國3年量產(chǎn)EUV光刻膠
- 不黑不吹,研發(fā)出EUV光刻機(jī),我們也無法順利制造7nm芯片