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- g線、i線、KrF、ArF、ArFi、EUV六代光刻機(jī),中國處于什么水平?
- 國產(chǎn)芯片再獲新技術(shù),無需EUV光刻機(jī)也能實(shí)現(xiàn)7納米,ASML慌了
- 下一代高NA EUV光刻機(jī)開發(fā)難度有多高?有望帶來產(chǎn)業(yè)鏈更新升級(jí)
- 碳基芯片,能幫助中國芯超過美國,還不需要EUV光刻機(jī)?
- EUV光刻機(jī)3大核心:2大來自德國,1大來自美國,ASML負(fù)責(zé)組裝
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