1、EUV光刻機(jī)于近十年間興起

隨著半導(dǎo)體技術(shù)的更新?lián)Q代,光刻機(jī)也從最開(kāi)始的g線(436nm)逐漸發(fā)展為近十年間興起的EUV光刻機(jī),從接觸式向接近式,最后演變成步進(jìn)式為主。EUV光刻機(jī),又稱極紫外線光刻機(jī),是芯片生產(chǎn)工具,是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,對(duì)芯片工藝有著決定性的影響,其中,小于5納米的芯片晶圓,只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。

2、供應(yīng)鏈龐雜、設(shè)備運(yùn)輸耗時(shí)耗力

光刻機(jī)是技術(shù)壁壘極高的產(chǎn)品,而EUV光刻機(jī)制造更是“難上加難”,不僅體現(xiàn)在技術(shù)設(shè)計(jì)方面,還在于零部件供應(yīng),一臺(tái)頂尖的EUV光刻機(jī)包含了10萬(wàn)多個(gè)零部件,全球供應(yīng)商超過(guò)5000家,從光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)分析來(lái)看,美國(guó)光源占27%,荷蘭腔體和英國(guó)真空占32%,日本材料占27%,德國(guó)光學(xué)系統(tǒng)占14%。因此,僅從零部件供應(yīng)來(lái)說(shuō),光刻機(jī)涵蓋的產(chǎn)業(yè)鏈就十分龐大。

同時(shí),從運(yùn)輸成本上來(lái)說(shuō),EUV光刻機(jī)體積十分龐大,一臺(tái)頂級(jí)的EUV光刻機(jī)重大180噸,需要40個(gè)集裝箱來(lái)運(yùn)輸,僅安裝調(diào)試的時(shí)間就需要一年左右。

3、EUV光刻機(jī)單臺(tái)價(jià)值高達(dá)1．5億歐元

由于EUV光刻機(jī)的高技術(shù)壁壘,也造就了其高價(jià)值特征。當(dāng)前,全球僅有荷蘭的ASML公司有能力生產(chǎn)EUV光刻機(jī)。

根據(jù)該公司的EUV光刻機(jī)售價(jià)顯示,2018年以來(lái),該公司的EUV光刻機(jī)價(jià)格也不斷上揚(yáng),2021年7月4日,約為1．54億歐元/臺(tái),折合人民幣11．7億元(以1歐元兌7．6元人民幣換算)。

4、從巨頭“ASML”窺探全球EUV光刻機(jī)市場(chǎng)

——ASML壟斷全球EUV光刻機(jī)市場(chǎng)

當(dāng)前,全球僅有荷蘭-ASML公司可生產(chǎn)EUV光刻機(jī),該公司于1997年加入了有英特爾和美國(guó)能源部牽頭組建的EUVLLC前沿技術(shù)組織,享受EUVLLC的研究成果大大加快了ASML的EUV研發(fā)速度;2010年,公司向一家亞洲芯片制造商的研究機(jī)構(gòu)運(yùn)送了第一臺(tái)極紫外(EUV)光刻工具原型(NXE:3100),標(biāo)志著光刻新時(shí)代的開(kāi)始;2020年,公司的EUV光刻機(jī)進(jìn)入大批量生產(chǎn),也為全球唯一一家能量產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司。

——EUV光刻機(jī)銷量迅猛增長(zhǎng),2020年達(dá)31臺(tái)

從ASML-EUV光刻機(jī)的銷售情況來(lái)看,2015-2020年,EUV光刻機(jī)銷量由1臺(tái)提升至31臺(tái),銷售額也從0．7億歐元增長(zhǎng)至44．64億歐元,呈高速增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)。2021年上半年,據(jù)公司公布的二季度業(yè)績(jī)信息顯示,公司已銷售了16臺(tái)EUV光刻機(jī),總價(jià)值達(dá)24．56億歐元。

從不同光刻機(jī)的銷售比重來(lái)看,2020年,EUV光刻機(jī)的銷售額占比達(dá)43%,已成為公司第一大銷售產(chǎn)品。

——EUV光刻機(jī)主要銷往亞太地區(qū)、臺(tái)積電成最大買(mǎi)家

從公司營(yíng)收的區(qū)域分布情況來(lái)看,2018-2020年,公司在中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)的銷售份額總體提升,在韓國(guó)的銷售份額有所下降,在中國(guó)大陸的銷售份額維持在15%左右。可以看出,ASML的光刻機(jī)主要銷往了亞洲地區(qū):

具體從EUV光刻機(jī)的購(gòu)買(mǎi)商情況來(lái)看,2018-2020年,臺(tái)積電購(gòu)買(mǎi)的EUV光刻機(jī)最多,合計(jì)達(dá)41臺(tái),其次是三星、英特爾。而在中國(guó)市場(chǎng),暫未有1臺(tái)EUV光刻機(jī)購(gòu)入,而中國(guó)在2018年的時(shí)候就已經(jīng)向荷蘭ASML公司采購(gòu)了光刻機(jī),花費(fèi)1．2億美元并且等待了兩年,但至今都還沒(méi)有收到貨。

——未來(lái)發(fā)展方向:從0．33向0．55推進(jìn)

關(guān)于EUV光刻機(jī)未來(lái)的發(fā)展方向,當(dāng)前ASML正在探尋從0．33向0．55推進(jìn),預(yù)計(jì)首批High-NA設(shè)備(0．55NA)將于2022年下半年交付。