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Digitimes:臺積電計劃 Q4 將 4nm 工藝轉(zhuǎn)移到風險生產(chǎn)階段

2021-06-21 來源:中電網(wǎng)
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臺積電今年四月更新了其最新的制程工藝路線圖,其 4nm 工藝將會在 2021 年底進入“風險生產(chǎn)”階段,并于 2022 年量產(chǎn),而 3nm 芯片依然是定在 2022 年下半年投產(chǎn),且 2nm 工藝正在開發(fā)當中。

知名供應(yīng)鏈媒體 DigiTimes 援引消息人士消息,臺積電先進工藝全面提速,在持續(xù)使用大量 EUV 設(shè)備提高生產(chǎn)力與效能后,已全面鞏固在 EUV 的領(lǐng)先地位,受此影響,供應(yīng)鏈企業(yè)新思、應(yīng)材供應(yīng)鏈雨露均沾。

此外,臺積電將在 2021 年第三季度將 N4(即 5nm 的加強版,或稱 4nm)轉(zhuǎn)移到風險生產(chǎn)階段,而其 N3 技術(shù)開發(fā)正按計劃進行,計劃于 2022 年下半年量產(chǎn)。


此前有消息稱高通下一代旗艦平臺(代號 SM8450)使用 4nm 工藝,現(xiàn)在看來年底首批出貨將由三星拿下,不排除后續(xù)也推出臺積電雙版本的可能。