華為很清醒:別想3nm、5nm,目前7nm工藝對中國芯最重要
目前最強的芯片工藝,是臺積電、三星的3nm。而按照計劃,明年臺積電、三星,以及英特爾,會進入2nm工藝。
在這樣的背景之下,很多網(wǎng)友總覺得,我們和臺積電、三星等落后太遠,我們需要快速追上,也達到3nm、2nm這樣的工藝,否則就是落后了。
也在這樣的背景之下,各種真假消息不斷的傳出,一下子說某某晶圓廠,已經(jīng)搞定了5nm,馬上就是3nm,又是說華為下一步就是3nm……
近日,華為常務董事張平安,公開發(fā)言稱,我們肯定是得不到3nm,肯定得不到5nm,我們能解決7nm就非常非常好。
這句話是什么意思?其實意思就是,目前的外部形勢之下,其實我們短時間之內(nèi),是搞不定了3nm,搞定不了5nm的,能搞定7nm就不錯了。
另外,他還說了更為關鍵的一段話,但這句話,很多人忽略了,只關注他說的3nm、5nm、7nm去了,他是這么說的:“中國創(chuàng)新的方向就必須要依托于我們芯片能力的方向,我們的創(chuàng)新方向不能在單點的芯片工藝上,我們的創(chuàng)新方向應該在系統(tǒng)架構上?!?/span>
這一段話,點明了我們目前芯片工藝前進的方向,那就是要基于我們當前的真實技術水平來努力,這個真實水平指的就是最多7nm,而不是5nm、3nm。
如何在7nm工藝上努力?那就是在系統(tǒng)架構上去努力,爭取將7nm工藝做到5nm,甚至3nm的水平,這個才是我們芯片前進的方向,而不是一味的追求什么5nm、3nm、2nm……
我們知道,自芯片進入28nm工藝之后,芯片的XX納米,其實代表的已經(jīng)不是真實的工藝水準了,這個XX納米和柵極寬度,金屬半間距等,已經(jīng)沒有關系了。
這個XX納米已經(jīng)是一種等效法,即它等效于XX納米。
舉個例子說明,我在10nm工藝上,進行了技術、架構、設計的改進后,芯片制造工藝其實還是10nm,但我這么一調(diào)整后,芯片性能提升了20%,降低了20%等,這種工藝,可以認為是10nm的下一代,也就是7nm的,這個7nm并不是真的7nm,而是等效7nm。
所以在7nm芯片的基礎之上,我們可以進行架構、設計、技術等的調(diào)整,肯定是能夠?qū)崿F(xiàn)5nm甚至3nm這樣的性能的,這也稱之為等效工藝。
華為其實就是告訴我們,現(xiàn)在不是卷5nm、3nm的時候,且基于當前的外部形勢,我們也卷不動,根本就獲取不到設備,比如EUV光刻機,你有辦法么?
在這樣的情況之下,大家要實事求是,基于自己現(xiàn)有的技術來創(chuàng)新,來調(diào)整方面,而不是跟著別人走,覺得臺積電、三星怎么搞,我們就要怎么搞。
