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美歐日韓芯片聯(lián)盟,出現(xiàn)裂縫,EUV光刻機時代,要過去了?

2024-03-11 來源:科技專家
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關鍵詞: ASML 臺積電 三星

眾所周知,全球最牛的光刻機廠商,是荷蘭的ASML,它壟斷了全球90%的光刻機市場,EUV光刻機市場更是高達100%,只有它能夠制造。


但ASML表面上看是荷蘭的,實際上是被美國控制的,ASML是美國意志的產(chǎn)物,沒有美國在背后推動,支持,ASML不可能有如此地位。


想當初,EUV光刻機的技術,其實是美國先研發(fā)出來的,后來交給了ASML來推進落地,也就有了ASML的EUV光刻機。


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所以,不用懷疑,ASML就是美歐芯片聯(lián)盟之間的紐帶,甚至不只是美歐,ASML還是日本、韓國、中國臺灣半導體產(chǎn)業(yè)的紐帶,EUV光刻機則是其中最為重要的一環(huán)。


靠著EUV光刻機,美國掌握了ASML,就相當于掌控了全球的芯片產(chǎn)業(yè)鏈,誰不聽美國的話,美國就要ASML斷了EUV光刻機的供給,對方立馬就老實了。


而為了扶持ASML,早期像美國的intel、臺積電、三星都投入了真金白銀,成為ASML的股東。


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不過,從近日的情況來看,美歐芯片聯(lián)盟,或者說美國掌握下的全球芯片一體化的紐帶,似乎出現(xiàn)了裂縫,那就是美國著名的存儲芯片企業(yè)美光,似乎要拋棄EUV光刻機了。


媒體報道稱,美光近日在一場演講當中介紹了如何將納米壓印技術用于DRAM生產(chǎn)的細節(jié),預示著美光將會率先采用佳能的NIL設備用于DRAM芯片的生產(chǎn),拋棄EUV光刻機。


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美光為何會使用NIL納米壓印設備?原因在于使用NIL設備,成本將大幅度降低。


按照佳能之前的說法,NIL設備的功耗只有EUV的10%左右,而使用NIL設備進組建全套芯片生產(chǎn)線,比使用EUV設備組建的全套生產(chǎn)線,成本低40%左右。


不過缺點就是生產(chǎn)效率不高,不如EUV光刻機,同樣的產(chǎn)能,需要多臺NIL設備,才能達到一臺EUV設備的效果。


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之前SK海力士已經(jīng)使用了NIL設備來制造存儲芯片,如果美光也采用NIL設備,慢慢拋棄掉EUV光刻機,趨勢就非常明顯了,這就意味著全球半導體產(chǎn)業(yè)鏈的紐帶EUV光刻機,面臨斷裂的危機了,EUV不再是5nm以下芯片制造的唯一,真正有了替代品。


而美國作為產(chǎn)業(yè)鏈背后的掌控者,也將面臨著很大的危機,一旦EUV光刻機壟斷地位不再,全球的格局都會被改寫,美國的芯片霸權,只怕也難以為繼了。