近日，有很多媒體表示稱，中國大陸的晶圓廠，正在和國內(nèi)某手機巨頭一起，利用DUV深紫外線技術(shù)，制造5nm的芯片，具體的芯片可能很快就要推出。

雖然消息不知真假，但結(jié)合前段時間浸潤式光刻機之父林本堅的說法，還是靠譜的，林本堅表示稱，浸潤式光刻機，可以制造5nm芯片，只是成本有點高而已，需要4重曝光。

事實上，很多專業(yè)人士有示，浸潤式光刻機的工藝級限，絕不是7nm，甚至也不是5nm，理論上連2nm芯片都能造。林本堅也表態(tài)了類似觀點，他說浸沒式DUV光刻技術(shù)，最高可以實現(xiàn)六重光刻模式，可以實現(xiàn)更先進的工藝。

只是，先進工藝下，DUV技術(shù)需要更多重的曝光技術(shù)，會顯著降低良率，降低制造效率，進而提高成本。

所以，在能買到EUV光刻機的情況下，到了7nm時，就會使用EUV紫光線來制造，與使用DUV相比，更為經(jīng)濟有效，因為不需要多重曝光，良率高，成本更低。

但大家都清楚，國內(nèi)買不到EUV光刻機，所以再難，再成本高，也只能用DUV光刻技術(shù)，去制造比7nm更先進的技術(shù)，這是沒辦法的事情。

所以這些媒體報道稱的，拿DUV技術(shù)，制造5nm芯片，也并不離譜，非常有可能，甚至哪一天傳出拿DUV制造3nm芯片，也有可能，不是在吹牛的。

當然，現(xiàn)在5nm芯片還沒造出來，但只要造出來了，就宣告美國的制裁基本失敗了。因為美國去年的政策，是將中國邏輯芯片鎖死在14nm的。

但今年，等效于7nm的芯片出來了，然后要是再有了等效5nm的芯片，當然意味著這個封鎖徹底失敗了。

更重要的是，目前全球使用5nm以下工藝的芯片，就只有蘋果的A17系列芯片、M3系列芯片，以及高通、聯(lián)發(fā)科最新的Soc，除了這些芯片之外，其它所有芯片都是使用5nm或更成熟的工藝，5nm及更成熟工藝的芯片占比超過97%。

那么從市場份額來看，只要能夠制造5nm工藝的芯片，意味著全球至少97%的芯片都能夠制造了，僅僅只有3%的芯片制造不出來。在這樣的情況之下，我們還需要擔心封鎖、打壓么？

所以，這顆5nm芯片希望是真的，只要它一推出來，估計美國的封鎖就徹底淪為笑話了，也就沒有存在的必要了，也意味著中國芯片產(chǎn)業(yè)正式騰飛起來了，你覺得呢？