中國大陸的臺(tái)積電誕生:幫華為量產(chǎn)7nm芯片,僅落后臺(tái)積電2代
近日,隨著華為Mate60、MateX5系列手機(jī)銷售,其搭載的芯片成為了全球最火的話題。
而從華為大規(guī)模銷售這些手機(jī),很明顯可以看出來,華為是徹底攤牌,不再低調(diào)了,直接向全世界表示,已經(jīng)突破了封鎖,美國是真的卡不住了。
而按照外媒的拆解分析,這顆芯片,其實(shí)是等同于7nm工藝的,且沒有EUV痕跡,意味著是用DUV光刻機(jī),經(jīng)多次曝光制造出來的。
至此,這顆芯片的出現(xiàn),也可以證明一個(gè)事實(shí),那就是中國大陸的廠商,也有了量產(chǎn)7nm芯片的能力,而目前全球也就只有4家晶圓廠有這個(gè)實(shí)力。另外三家分別是臺(tái)積電、三星、intel。
于是很多網(wǎng)友稱,這可以說是中國大陸的臺(tái)積電誕生了,畢竟已經(jīng)進(jìn)入10nm以下,離的不算太遠(yuǎn)了。
當(dāng)然,如果從工藝制程來看,臺(tái)積電目前的工藝是3nm,其實(shí)較7nm工藝,也就兩代,因?yàn)橹虚g只隔了一個(gè)5nm了。而像三星也是3nm工藝,intel目前還處于7nm。
所以如果從工藝制程來看,中國芯確實(shí)有了非常大的突破,特別是在美國的封鎖之下,因?yàn)槊绹笆窍胍ㄋ乐袊驹?4nm的,對(duì)14nm及以下的設(shè)備全部封禁了。
不過,大家也要看到另外一個(gè)事實(shí),那就是從14nm進(jìn)入7nm,相對(duì)而言沒有想象中的那么難,因?yàn)槠渲凶钪匾墓饪虣C(jī),有解決辦法。
不管是28nm,還是14nm,或者7nm,都可以用浸潤式光刻機(jī)來制造,通過多次曝光后,浸潤式光刻機(jī),最多可以量產(chǎn)7nm芯片。
但要進(jìn)入5nm芯片,就完全不一樣了,以目前的技術(shù),要進(jìn)入5nm,需要用到EUV光刻機(jī),沒有另外的辦法。
而EUV光刻機(jī)目前國內(nèi)是買不到的,所以要進(jìn)入5nm,要跨過的檻更高,更難了。
但不管怎么樣,有了7nm芯片的量產(chǎn)能力后,全球可以說90%的芯片都可以生產(chǎn)了,美國是真的卡不住了,而中國大陸真的也有希望誕生出一家“臺(tái)積電”。
