中商情報(bào)網(wǎng)訊：光掩膜版一般指光掩膜基版。 光掩膜基版是制作微細(xì)光掩膜圖形的理想感光性空白板，通過光刻制版工藝可以獲得所需光掩膜版。

市場規(guī)模

掩膜版是微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移母版，是平板顯示、半導(dǎo)體、觸控、電路板等行業(yè)生產(chǎn)制造過程中重要的關(guān)鍵材料，其中，半導(dǎo)體是掩膜版最主要的應(yīng)用領(lǐng)域，占比60%。中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2024-2029全球及中國光掩膜板行業(yè)研究及十四五規(guī)劃分析報(bào)告》顯示，2018-2022年，全球半導(dǎo)體掩膜版市場規(guī)模由40.41億美元增長至49億美元，復(fù)合年均增長率達(dá)4.9%。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預(yù)測，2023年半導(dǎo)體掩膜版市場規(guī)模將繼續(xù)增長至50.98億美元。

數(shù)據(jù)來源：SEMI、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

下游應(yīng)用情況

掩膜版在半導(dǎo)體、顯示面板、觸摸屏、電路板等領(lǐng)域生產(chǎn)均有使用。從下游應(yīng)用來看，掩膜版IC和平板顯示領(lǐng)域使用量最多，其中半導(dǎo)體占據(jù)60%的份額，LCD占比23%份額，OLED占比5%，PCB占比2%。

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理