據(jù)《中國日報》等多家媒體報道，荷蘭最新芯片出口管制措施于今日（9月1日）生效。

對此，荷蘭芯片制造設(shè)備巨頭ASML（阿斯麥）方面回復(fù)稱，目前，ASML已向荷蘭政府提出TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)的出口許可證申請，荷蘭政府也已經(jīng)頒發(fā)了截至9月1日所需的許可證，允許ASML今年繼續(xù)發(fā)運TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)。（注：涉及16nm及以下制程工藝制造部分）

那么根據(jù)最新變化，明年1月起，ASML三款先進浸沒式深紫外光刻機 (DUV) 設(shè)備將不會對中國出口，這對國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)鏈將造成深遠的影響。NXT: 2000i及后續(xù)光刻系統(tǒng)半間距為38nm、對準精度為2.0nm以內(nèi)，對應(yīng)是16nm至7nm先進制程芯片的制造（基于芯片類型不同，也可用在45nm及以下的成熟制程當中），因此業(yè)界普遍認為，此次受限制的是16nm及以下制程工藝制造。

各個工藝節(jié)點和光刻技術(shù)的關(guān)系

ASML半導體光刻機產(chǎn)品參數(shù)

ASML的EUV光刻機歷程

2006年，ASML推出了第一臺EUV光刻機AlphaEUV演示工具，標志著ASML正式進入EUV光刻機領(lǐng)域。隨后，公司開始大力推進EUV技術(shù)的研發(fā)與生產(chǎn)，不斷改進產(chǎn)品的性能與精度，發(fā)展了一系列的EUV光刻機產(chǎn)品。2014年，ASML推出了世界上第一臺EUV可用于芯片生產(chǎn)的光刻機，標志著EUV技術(shù)已經(jīng)開始商業(yè)化。

    到了2017年，ASML推出了支持7納米和5納米節(jié)點的EUV量產(chǎn)型號TWINSCANNXE:3400B，它的分辨率遠高于傳統(tǒng)的ArFi光刻機，并能夠在制造高密度存儲芯片時發(fā)揮巨大的作用。截止至2022年底，ASML實際賣出EUV光刻機僅182臺，在這個數(shù)字下，EUV光刻機的市場份額仍然相當小。

ASML的EUV光刻機客戶情況

ASML的EUV光刻機客戶主要分為兩類，一類是制造芯片的企業(yè)，如英特爾、三星、臺積電，另一類是制造DRAM內(nèi)存的企業(yè)，如美光、SK海力士、三星。這些客戶均是全球知名的科技公司，在各自領(lǐng)域擁有著廣泛的產(chǎn)品線和市場份額，并且對高精度、高質(zhì)量的光刻機需求較大。

值得注意的是，ASML僅有5個EUV光刻機客戶，這也正是EUV光刻機市場較小的主要原因之一。

EUV光刻機市場需求現(xiàn)狀

EUV光刻機是當今半導體生產(chǎn)過程中最重要和最昂貴的設(shè)備之一。EUV光刻機的生產(chǎn)成本極高，需要巨額的研發(fā)資金和投入，而且其制造流程復(fù)雜，技術(shù)難度也非常高。同時，EUV光刻機市場的需求量并不像想象中那么大，目前ASML是唯一的EUV光刻機生產(chǎn)商，其它光刻機企業(yè)不研發(fā)EUV光刻機的原因，是因為會與ASML打價格戰(zhàn)，最后雙方都會虧損。因此，目前EUV光刻機市場份額比較小，但是其商業(yè)價值以及在芯片生產(chǎn)過程中的地位不言而喻。

中國研發(fā)EUV光刻機

中國正大力發(fā)展芯片制造產(chǎn)業(yè)，在芯片高端制造領(lǐng)域持續(xù)加強技術(shù)攻關(guān)。EUV光刻機作為半導體領(lǐng)域的重要制造設(shè)備之一，已經(jīng)成為中國芯片制造產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。

目前在全球范圍內(nèi)，除ASML之外，中國是唯一一家研發(fā)EUV光刻機的企業(yè)。由于EUV光刻機的研發(fā)周期極長，技術(shù)難度極大，中國需要長時間的持續(xù)投入。目前，中國還沒有成熟的EUV光刻機技術(shù)，但中國政府正加大對該領(lǐng)域的投資和扶植，而首次購買EUV光刻機的中國企業(yè)——中芯國際也將成為中國EUV光刻機在市場上探索的重要推手。

總結(jié)

EUV光刻機是半導體制造領(lǐng)域的重要裝備，目前市場份額相對較小，但商業(yè)價值和在芯片生產(chǎn)中的地位不容小覷。ASML公司在EUV光刻機領(lǐng)域中占據(jù)著重要的市場地位，客戶主要集中在制造芯片和DRAM內(nèi)存領(lǐng)域之內(nèi)。除ASML之外，目前全球沒有其它光刻機企業(yè)研發(fā)EUV光刻機，這也是EUV光刻機市場需求量相對較小的主要原因之一。中國正積極尋求獨立研發(fā)EUV光刻機，計劃加快在半導體領(lǐng)域的技術(shù)攻關(guān)和產(chǎn)業(yè)升級。