最近幾年，芯片要100%自研，要獨(dú)立自主，要打造全產(chǎn)業(yè)鏈等等，應(yīng)該是大家聽(tīng)的最多的關(guān)鍵詞了。

但從當(dāng)前的現(xiàn)實(shí)來(lái)看，雖然取得了一些成績(jī)，但我們依然不得不接受一個(gè)無(wú)奈的現(xiàn)實(shí)，那就是中國(guó)芯目前還依賴美國(guó)EDA，英國(guó)ARM，ASML的光刻機(jī)。

先說(shuō)EDA，目前芯片設(shè)計(jì)端的電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化 (EDA) 軟件有三大巨頭，分別是Synopsys、Cadence和SiemensEDA。

這三大巨頭可以說(shuō)全部是美國(guó)的，在全球EDA市場(chǎng)，占到了85%+的份額，在中國(guó)市場(chǎng)更是占到了90%+的份額。

而國(guó)產(chǎn)EDA，在先進(jìn)工藝、全流程替代上，完全無(wú)法替代這三大EDA產(chǎn)品，只能小部分進(jìn)行替代，所以目前國(guó)內(nèi)的芯片設(shè)計(jì)企業(yè)、晶圓企業(yè)，基本上都有使用這美國(guó)這三大EDA產(chǎn)品。

再說(shuō)英國(guó)的ARM，目前ARM通過(guò)ARM中國(guó)在國(guó)內(nèi)有300多家合作伙伴，ARM給這些合作伙伴提供指令集授權(quán)，還提供CPU\GPU等IP授權(quán)。

比如華為、飛騰、紫光展銳等等企業(yè)，均是ARM的客戶，大家都使用ARM的指令集，以及IP核，可以說(shuō)國(guó)內(nèi)的芯片企業(yè)，還比較依賴ARM，一旦斷供，后果還是很?chē)?yán)重的。

再說(shuō)說(shuō)ASML的光刻機(jī)。ASML應(yīng)該是大名鼎鼎了，從DUV到EUV，ASML壟斷全球，特別是EUV光刻機(jī)，全球僅他一家能夠生產(chǎn)。

拿2021年的數(shù)據(jù)來(lái)看，全球一共售出478臺(tái)前道光刻機(jī)，其中ASML拿下309臺(tái)，占比為65%。在先進(jìn)的EUV光刻機(jī)上，ASML獨(dú)占100%，而DUV中，精度更高的ArFi、ArF Dry均是ASML說(shuō)了算，占比分別96%、88%。

只有一些不先進(jìn)的KrF、i-line、g-ling光刻機(jī)，才有尼康、佳能的身影，至于國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)，更是很難被晶圓廠們使用。

如果ASML不提供光刻機(jī)，國(guó)內(nèi)的晶圓廠很難大規(guī)模擴(kuò)產(chǎn)，也無(wú)法進(jìn)行先進(jìn)工藝的研發(fā)和突破。

事實(shí)上，除了EDA、ARM、ASML之外，我們還依賴日本的半導(dǎo)體材料，比如光刻膠等，還有美國(guó)的一些半導(dǎo)體設(shè)備，還依賴臺(tái)積電的先進(jìn)制程工藝等等。

一句話來(lái)總結(jié)，那就是目前中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)依然需要依賴海外企業(yè)的技術(shù)、產(chǎn)品供應(yīng)。這應(yīng)該也是未來(lái)很長(zhǎng)一段時(shí)間內(nèi)的常態(tài)，短時(shí)間內(nèi)無(wú)法改變。

所以，我們接下來(lái)，不僅僅是要提高芯片產(chǎn)能，減少進(jìn)口，更重要的是從根本上擺脫技術(shù)路徑的對(duì)外依賴，形成自己的產(chǎn)品體系和技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)，這才是讓中國(guó)芯片行業(yè)立于不敗之地的根本，否則會(huì)一直被卡脖子。