2022年全球CVD設(shè)備市場規(guī)模及結(jié)構(gòu)預(yù)測分析(圖)
關(guān)鍵詞: CVD設(shè)備
中商情報網(wǎng)訊:CVD(化學(xué)氣相沉積),指把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入反應(yīng)室,在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過程。在大規(guī)模集成電路中很多薄膜都是采用CVD方法制備。經(jīng)過CVD處理后,表面處理膜密著性約提高30%,防止高強力鋼的彎曲,拉伸等成形時產(chǎn)生的刮痕。
市場規(guī)模
2019年受下游需求下降整體半導(dǎo)體景氣度下降影響,CVD設(shè)備需求出現(xiàn)較大幅度下滑,2020年以來5G帶動智能手機需求回暖,整體半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)需求回升,2020年CVD設(shè)備規(guī)模達85億美元。隨著汽車電子和物聯(lián)網(wǎng)整體持續(xù)發(fā)展,半導(dǎo)體需求持續(xù)提升,預(yù)計2022年市場規(guī)模將達到96億美元。
數(shù)據(jù)來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
市場結(jié)構(gòu)
目前PECVD占比最多,達46.9%,PECVD設(shè)備在相對較低的反應(yīng)溫度下形成高致密度、高性能薄膜,不破壞已有薄膜和已形成的底層電路,實現(xiàn)更快的薄膜沉積速度;ALD也隨著先進制程需求持續(xù)增長占比有所提升,目前達17.7%左右。其次分別為LPCVD、APCVD、MOCVD,占比分別為15.6%、14.6%、5.2%。
數(shù)據(jù)來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
