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華為芯片“亮劍”后,臺積電、三星先后宣布新消息

2022-10-08 來源:互聯(lián)網亂侃秀
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關鍵詞: 臺積電 華為 半導體

華為在芯片研發(fā)設計方面是一流,自研了很多芯片,也開辟了多個先例,被競爭對手模仿。

例如,華為推出了NPU,并將其內置在處理器中;華為最先推出5G雙模芯片;華為麒麟9000芯片是全球綜合體驗最好的5G Soc。

數(shù)據顯示,華為海思不僅成為全球第十大半導體芯片,一度拿下了國內超過50%的市場份額。

芯片等規(guī)則被修改后,臺積電等廠商就不能自由出貨了,余承東表示麒麟9000等芯片暫時無法生產制造了。


于是,華為不僅全面進入芯片半導體領域內,還投資國內芯片產業(yè)鏈進行聯(lián)合突破。

今年早些時候,余承東正式對外表示華為將會采用堆疊技術芯片,用面積換性能,讓華為快速擁有高性能芯片可用。

要知道,華為已經發(fā)布了多個與堆疊技術芯片相關的技術專利,主要涉及芯片拼接、功耗等。

同時,堆疊技術的芯片不改變芯片制程,一樣可以翻倍提升芯片性能。

可以說,堆疊芯片將會是華為解決芯片的利劍,畢竟,上海已經宣布14nm先進工藝已經規(guī)模量產,而中芯國際N+1工藝的芯片也實現(xiàn)了小規(guī)模量產。


意外的是,華為芯片亮劍后,臺積電、三星先后宣布新消息。

據悉,劉德音表示臺積電追求更高的能效,3nm芯片將會在今年量產,同時,臺積電將會在2024年獲得全新一代High NA EUV光刻機,2025年量產2nm芯片。

更高的能效是指芯片擁有更高的性能和更低的功耗表現(xiàn)。

隨后三星也正式對外宣布,今年 6 月已經開始量產采用3nm工藝的芯片,2025 年大規(guī)模生產先進的2nm芯片,2027年大規(guī)模生產1.4nm芯片。


臺積電、三星先后宣布新消息,這意味深長,原因主要有三點。

首先,堆疊技術芯片并非新技術,英特爾等廠商早就采用了類似技術,只不過此類芯片都是用在超算或者商用設備上。

蘋果推出M1 Ultra芯片后,堆疊技術芯片首次應用了消費者設備上,在不改變芯片制程的情況,蘋果將芯片的多核性能翻倍提升,引發(fā)矚目。

隨后華為也宣布將會采用堆疊技術芯片,解決華為沒有高性能芯片可用的問題。


這就意味著堆疊芯片將會在蘋果、華為的推動下,以更快的速度進度消費者領域,這勢必會降低對臺積電、三星的依賴。

因為堆疊技術芯片不用先進制程工藝,就可以獲得高性能芯片。

其次,臺積電、三星先后宣布更先進制的芯片,實際上就是想擠壓堆疊技術芯片的空間。

臺積電追求更高的能效,三星宣布2nm、1.4nm芯片的量產,實際上就是告訴廠商,有比堆疊技術芯片更好的芯片。


2nm、1.4nm等納米的芯片不僅有更高的性能,還有更好的功耗表現(xiàn),而堆疊技術芯片雖然成本更低一些,性能也很強大,但功耗是軟肋。

最后,蘋果、華為等推出堆疊技術芯片,也是因為芯片性能提升越來越難,7nm到5nm并沒有明顯提升,5nm到4nm也是如此。

即便是3nm芯片,臺積電、三星GAA工藝分別提升11%和21%,而堆疊技術芯片則可以性能翻倍提升。


臺積電、三星先后2nm芯片,甚至更小的1.4nm芯片,實際上也是想告訴廠商將會有性能更強大的芯片。

畢竟,2nm以下制程的芯片,三星、臺積電都將會采用GAA工藝。