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MDDESD對(duì)于電子器件的破壞機(jī)理分析

2025-01-14 來源:深圳辰達(dá)半導(dǎo)體有限公司 作者:深圳辰達(dá)半導(dǎo)體有限公司 原創(chuàng)文章
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關(guān)鍵詞: ESD 電子器件 破壞機(jī)理 敏感性 預(yù)防措施

MDD的靜電放電(ESD)是電子設(shè)備和組件在生產(chǎn)、運(yùn)輸和使用過程中常見的一種靜電現(xiàn)象。當(dāng)帶電物體與電子器件接觸或靠近時(shí),電荷快速轉(zhuǎn)移會(huì)形成瞬間高電壓和大電流,這種現(xiàn)象可能對(duì)電子器件造成不可逆的損害。以下將詳細(xì)分析ESD對(duì)電子器件的破壞機(jī)理及其后果。

1.ESD破壞的基本機(jī)理

ESD破壞通常是由瞬態(tài)高壓和大電流引發(fā),主要通過以下幾種方式對(duì)電子器件造成影響:

1.1熱破壞

ESD過程中,大電流在器件內(nèi)部產(chǎn)生局部過熱,可能引起材料的熔化或蒸發(fā)。

導(dǎo)電路徑損壞:半導(dǎo)體中的金屬導(dǎo)線可能因過熱而熔斷。

結(jié)區(qū)破壞:二極管或晶體管的PN結(jié)在高溫作用下可能被擊穿。

1.2電場擊穿

ESD產(chǎn)生的瞬態(tài)高電壓會(huì)導(dǎo)致器件內(nèi)部的電場超過其耐受極限,破壞敏感結(jié)構(gòu)。

氧化層擊穿:MOS器件的柵氧化層厚度極薄,強(qiáng)電場可能直接擊穿導(dǎo)致失效。

絕緣層破壞:芯片中的絕緣介質(zhì)可能發(fā)生永久性破壞。

1.3電流損傷

快速變化的大電流會(huì)在器件中形成高電流密度,造成電遷移或金屬熔化。

金屬遷移:導(dǎo)電路徑中的金屬原子因高電流密度遷移,導(dǎo)致斷路或短路。

燒毀效應(yīng):瞬態(tài)電流會(huì)直接燒毀電路中的薄弱部分。

2.ESD破壞的主要表現(xiàn)

ESD對(duì)電子器件的破壞可以分為顯性和隱性兩種:

顯性破壞:器件完全失效,例如短路、開路或封裝損壞。

隱性破壞:器件性能下降,但仍能部分工作,例如參數(shù)漂移或噪聲增加,這種破壞可能在后續(xù)使用中導(dǎo)致器件壽命縮短或隨機(jī)失效。

3.不同類型器件的ESD敏感性

電子器件的ESD敏感性因其結(jié)構(gòu)和材料不同而異:

MOS器件:因柵極氧化層薄,耐壓能力低,對(duì)ESD極為敏感。

雙極型晶體管:因結(jié)區(qū)面積較小,高電流密度易導(dǎo)致熱損傷。

LED和激光器:內(nèi)部材料的脆弱性導(dǎo)致其對(duì)ESD電流尤為敏感。

高頻器件:工作頻率越高,其內(nèi)部結(jié)構(gòu)越小,ESD耐受能力越低。

4.ESD破壞的預(yù)防措施

為降低ESD的破壞風(fēng)險(xiǎn),需要在設(shè)計(jì)、生產(chǎn)和使用環(huán)節(jié)中采取以下措施:

電路設(shè)計(jì):增加ESD保護(hù)器件,如TVS二極管、靜電放電抑制電路。

工藝改進(jìn):在制造過程中使用防靜電材料及設(shè)備。

操作規(guī)范:在生產(chǎn)和運(yùn)輸中,人員需佩戴防靜電手環(huán)、腳環(huán),并使用防靜電包裝。

環(huán)境控制:在潔凈室中保持適當(dāng)?shù)臐穸?,降低靜電積累。

ESD破壞是現(xiàn)代電子行業(yè)不可忽視的問題,其影響不僅表現(xiàn)在器件本身的失效,還可能導(dǎo)致整機(jī)設(shè)備的不穩(wěn)定或故障。通過深入了解ESD的破壞機(jī)理以及對(duì)電子器件的敏感性,可以更有效地采取針對(duì)性的防護(hù)措施,從而提升產(chǎn)品的可靠性和使用壽命。




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